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China revisará regras de implementação da lei de patentes - China Legal News

Qui, 24 de dezembro de 2020
Contribuintes: Yanru Chen 陈彦茹

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Solicitamos comentários públicos sobre sugestões para revisar as regras de implementação da lei de patentes (versão preliminar para comentários) até 11 de janeiro de 2021.

Em 27 de novembro de 2020, a fim de se adequar à alteração da Lei de Patentes, a Administração Nacional de Propriedade Intelectual da China ("CNIPA") emitiu a proposta de Sugestões de Revisão das Regras de Implementação da Lei de Patentes (Rascunho para Comentários) (“o Rascunho para comentários ”, 专利 法 实施 细则 修改 建议 (征求意见稿)) para solicitar comentários do público. O prazo para comentários públicos é 11 de janeiro de 2021.

A revisão do Projeto de Comentários cobre principalmente dois aspectos: em primeiro lugar, para adicionar as disposições que se enquadram nas revisões da Lei de Patentes, e, em segundo lugar, para melhorar as disposições relevantes, sujeito às necessidades práticas.

As revisões da Lei de Patentes incluem principalmente:

(1) para revisar as disposições relevantes sobre a extensão do prazo da patente, especificamente, o prazo para solicitar a extensão do prazo de patentes autorizadas, as circunstâncias de atraso excessivo causado pelo requerente, os requisitos de aplicação, âmbito do medicamento e âmbito de proteção da patente de medicamento extensão de prazo, etc .;

(2) revisar as disposições relevantes sobre os projetos, incluindo a prioridade doméstica do projeto em parte ou no todo;

(3) revisar as disposições relevantes sobre a licença aberta, incluindo os procedimentos de aplicação e requisitos de conteúdo para a declaração de licença de abertura, as circunstâncias em que a declaração de licença de abertura não será anunciada, os procedimentos para retirar uma declaração de licença de abertura e sua entrada em vigor, o procedimento de depósito e os materiais de prova após a concessão da licença de abertura, etc .;

(4) revisar as disposições relevantes sobre proteção administrativa, tais como esclarecer as circunstâncias sob as quais disputas sobre violação de patente com impacto nacional significativo devem ser tratadas pelo departamento administrativo de patentes sob o Conselho de Estado; e

(5) revisar as disposições relevantes sobre a reforma institucional, como emendas às expressões do Conselho de Reexame de Patentes, etc.

As revisões sujeitas a necessidades práticas incluem principalmente:

(1) aumentar as disposições pertinentes em conexão com tratados de cooperação de patentes, tais como adesão por referência e recuperação de direito de prioridade;

(2) para melhorar as disposições relevantes das patentes de design, incluindo o esclarecimento da definição do pedido internacional de patentes de design relacionadas ao Acordo de Haia que a China propõe aderir, e a determinação da data de aplicação e data efetiva do acordo internacional pedido de patentes de design, etc .;

(3) melhorar as disposições sobre como lidar com epidemias e outras emergências e estender o prazo ex officio (se houver);

(4) para aumentar as disposições relevantes sobre a melhoria da qualidade e eficiência no exame de patentes, exame ex officio em casos envolvendo reexame e invalidação de patentes, exame em violação do princípio de boa fé e remédios para decisões não rejeitadas, etc .;

(5) aumentar as disposições relevantes na implementação dos requisitos de "simplificação da administração, delegação de poderes e melhoria da regulamentação e serviços", tais como relatórios de avaliação de direitos de patente, exceções à atribuição obrigatória, simplificação dos procedimentos para pedidos caso a caso, e serviços de informação de patentes, etc .;

(6) para otimizar as disposições relevantes sobre o processo de exame de patentes, incluindo métodos de pedido eletrônico, melhorando e simplificando os requisitos para documentos de pedido, etc .; e

(7) aumentar e otimizar as disposições pertinentes sobre proteção administrativa, como a verificação judicial de acordos de mediação administrativa em disputas de patentes.

 

Contribuintes: Yanru Chen 陈彦茹

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